真空除气炉的构成介绍

真空测量装置：采用复合真空计，使测量准确。

加热烘烤组件：采用铠装管加热，包括工件托盘及支架，箱室顶部中心测温。功率：9.5千瓦，控制精度：±1℃。

管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了---的物质基础。

真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。

前级泵：选用涡旋干式真空泵，无油运行，可为真空箱室提供洁净的真空环境。

分子泵：选用脂润滑复合分子泵，可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。

真空除气储存柜的放置

本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置---期通风---的位置。使用前注意电压是否正确，仅适用机台上所标示之电压，避免电过量，而使电线走火．请勿置于潮湿之场所，请勿直接用水冲洗，以防漏电；

请小心将物品放入机台，关上箱门，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到---。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

　---真空度高；

　控温精度高；

　更高的升温速率；

　智能化；

　可真空去除产品空洞与气泡；

　降低产品的氧化性；

　提高工艺室的洁净度。

真空除气存储柜工艺流程

真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。

该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。

设备具有---的智能化，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。